1等離子光氧一體機凈化設備去除有害氣體惡臭氣體的一種裝置。它具有運行成本低、設備占地面積小，自重輕、無任何機械動作，無噪音等特點，等離子光解一體機凈化設備凈化效率在95%以上。
2、適用范圍：等離子光解一體機凈化設備主要運用于油漆噴涂、造紙頁、制藥業(yè)、輪胎及橡膠生產廠、汽車生產、污水處理、污泥廢氣處理、垃圾處理廢氣、皮革業(yè)、印刷廠、香料生產業(yè)、飼料及飼養(yǎng)場、農藥生產以及煙草業(yè)等等多個領域的有害氣體、異味和惡臭處理。涉及氣體物質多達900多種。
3、反應原理
當廢氣進入等離子光解一體機凈化設備內時，先經過等離子體化學反應過程，即電子首先從電場獲得能量，通過激發(fā)或電離將能量轉移到分子或原子中去，獲得能量的分子或原子被激發(fā)，同時有部分分子被電離， 從而成為活性基團；之后這些活性基團與分子或原子、活性基團與活性基團之間相互碰撞后生成穩(wěn)定產物和熱。(在外加電場的作用下，介質放電產生的大量攜能電子轟擊污染物分子，使其電離、解離和激發(fā)，然后便引發(fā)了一系列復雜的物理、化學反應，使復雜大分子污染物轉變?yōu)楹唵涡》肿影踩镔|，或使有害物質轉變成無害或低害的物質，從而使污染物得以降解去除。)然后部分有機廢氣再通過分解、催化氧化把污染氣體分解為無害氣體。采用C波段光線強裂污染氣體分子鏈，改變物質分子結構，將高分子污染物質裂解、氧化成為低分子無害物質，如水和二氧化碳等。O3強催化氧化劑進行廢氣催化氧化, 可有效地滅細菌，將有害物質裂解且改變成為低分子無害物質。在C波段激光刺激催化劑涂層產生活性，強化催化氧化作用。在分解過程中產生臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而產生臭氧。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),眾所周知臭氧對有機物具有氧化作用，對惡臭氣體及其它刺激性異味有清除效果。O3也為強催化氧化劑進行廢氣催化氧化, 裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，裂解細菌的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應，達到脫臭及滅菌的目的。
